mgm美高梅登录中心APP下载安装|白兔糖漫画下载|俄罗斯光刻机路线年底前完成E
发布时间：
2025-10-05
美高梅(MGM)娱乐app下载◈ღ◈，美高梅◈ღ◈，mgm美高梅首页◈ღ◈，光机电产品美高梅官网正网9月28日消息◈ღ◈，俄罗斯计算机与数据科学博士Dmitrii Kuznetsov近日通过X平台曝光了俄罗斯最新的光刻机研发路线图◈ღ◈，显示俄罗斯最快将在2026年完成65-40nm分辨率的光刻机的研发◈ღ◈，2032年前完成28nm分辨率的光刻机的研发◈ღ◈，并最终在2036年底前完成可以生产10nm以下先进制程的全新极紫外线光（EUV）光刻机的研发◈ღ◈。
其实◈ღ◈，早在2024年12月mgm美高梅登录中心APP下载安装◈ღ◈，俄罗斯科学院微观结构物理研究所就已经公布由其主导研发的EUV光刻机计划◈ღ◈，该EUV光刻机将采用波长为11.2nm的镭射光源mgm美高梅登录中心APP下载安装◈ღ◈，而非ASML 使用的标准13.5nm波长◈ღ◈，目标是打造比ASML 系统更经济的EUV光刻机◈ღ◈。而最新曝光的俄罗斯光刻机路线图则相比之前得到了进一步完善◈ღ◈，研发周期也一直延伸到了2036年mgm美高梅登录中心APP下载安装◈ღ◈。
第一个阶段◈ღ◈：计划于 2026 年至 2028 年推出分辨率为 60-40nm 的光刻机◈ღ◈，具有双镜物镜光学系统◈ღ◈、套刻精度可以达到10nm◈ღ◈、曝光区域为 3 x 3mm◈ღ◈，生产效率为每小时超过 5 片晶圆◈ღ◈。
第二阶段◈ღ◈：计划于2029-2032 年推出分辨率为 65-28nm （潜力为 14 nm）的光刻机◈ღ◈，将采用四镜物镜光学系统◈ღ◈、套刻精度5nm◈ღ◈、曝光区域为26 x 0.5 mm◈ღ◈，生产效率为每小时超过50片晶圆◈ღ◈。
第三阶段◈ღ◈：计划于2033-2036 年推出分辨率为 28-13nm（潜力为9nm）的光刻机◈ღ◈，将采用六镜物镜光学系统◈ღ◈、套刻精度2nm◈ღ◈、曝光区域为26 x 2 mm◈ღ◈，生产效率将提升至每小时超过100片晶圆◈ღ◈。
需要指出的是◈ღ◈，俄罗斯的光刻机路研发技术路线与ASML完全不同白兔糖漫画下载◈ღ◈。比如◈ღ◈，ASML 的 EUV 光刻机采用的是激光轰击金属锡滴产生13.5nm波的EUV光源白兔糖漫画下载◈ღ◈，然后通过反射镜收集并修正路线◈ღ◈，最终达到晶圆表明的光刻胶◈ღ◈。但是金属锡会产生碎屑◈ღ◈，从而污染光掩模（也称光罩）白兔糖漫画下载◈ღ◈。
相比之下◈ღ◈，而俄罗斯光刻机则选择采用的是基于氙（xenon）气的激光器来产生波长为11.2nm的EUV光源◈ღ◈，不仅能将分辨率提升约20%◈ღ◈，还可以简化设计并降低整个光学系统的成本◈ღ◈。此外◈ღ◈，该设计还可减少光学元件的污染白兔糖漫画下载◈ღ◈，延长收集器和保护膜等关键零件的寿命mgm美高梅登录中心APP下载安装◈ღ◈。
俄罗斯科学院微观结构物理研究所称◈ღ◈，由于光刻工艺的简化◈ღ◈，其认为11.2nm的光刻技术将成为线nm浸没式DUV光刻机的真实替代品◈ღ◈，这主要在于其无需浸没系统◈ღ◈，且分辨率高◈ღ◈，成本低廉白兔糖漫画下载◈ღ◈。
但是mgm美高梅登录中心APP下载安装◈ღ◈，俄罗斯的这个EUV光刻机路线nm 的激光器这么简单◈ღ◈。尽管11.2nm波长仍属于EUV范畴◈ღ◈，但这并非单纯的小幅调整◈ღ◈。因为所有光学元件包括反射镜及涂层◈ღ◈、光罩设计以及光阻剂◈ღ◈，都需要针对新的波长进行特别设计与优化◈ღ◈。
比如◈ღ◈，ASML EUV光刻机的反射镜采用的是硅与钼的镀膜反射镜◈ღ◈，而11.2nm波长的EUV光刻机则需要由钌和铍（Ru/Be） 制成的反射镜◈ღ◈。所以白兔糖漫画下载◈ღ◈，激光光源◈ღ◈、反射镜◈ღ◈、光阻化学◈ღ◈、污染控制及其他支持技术也须重新设计◈ღ◈，才能确保在11.2nm波长下的有效运作◈ღ◈。
所以◈ღ◈，以11.2nm波长为基础的工具很难直接兼容现有以13.5nm为基础EUV 架构与生态系统白兔糖漫画下载◈ღ◈，甚至连电子设计自动化（EDA）工具也需要进行更新◈ღ◈。虽然现有EDA 工具仍可完成逻辑综合◈ღ◈、布局和路由等基本步骤◈ღ◈，但涉及曝光的关键制程◈ღ◈，如光罩数据准备◈ღ◈、光学邻近校正（OPC）和解析度增强技术（RET）◈ღ◈，则需要重新校准或升级为适合11.2nm的新制程模型◈ღ◈。
总结来说◈ღ◈，俄罗斯的自研的EUV光刻机技术虽然简化了原本复杂的光源系统◈ღ◈，并降低了这部分的成本◈ღ◈，但是其并不能复用现有的EUV技术的零部件和材料◈ღ◈，因此也会带来很多的复杂性和成本的挑战◈ღ◈，需要俄罗斯自行开发配套的生态系统◈ღ◈，而这可能需要数年甚至十年以上时间◈ღ◈。
更为关键的是◈ღ◈，俄罗斯研发的EUV光刻机还面临着生产效率低下的问题◈ღ◈。虽然曝光的图片显示◈ღ◈，其第三阶段推出的EUV光刻机的生产效率可达每小时超过100片晶圆◈ღ◈，但是这只有ASML EUV光刻机的一半◈ღ◈。
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